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3.单相半波可控整流电路工作原理及参数计算
1)
几个名词术语和概念
控制角
:控制角
也叫触发角或触发延迟角,是指晶闸管从承受正向电压开始到触发脉冲出现之间的电角度。
导通角θ:是指晶闸管在一周期内处于导通的电角度。
移相:移相是指改变触发脉冲出现的时刻,即改变控制角
的大小。
移相范围:移相范围是指一个周期内触发脉冲的移动范围,它决定了输出电压的变化范围。
2)分析工作原理、绘制输出电压ud波形时要抓住晶闸管什么时候导通、什么时候关断这个关键。
3)电感性负载时,理解输出负电压的原因。关键是理解电感储存、释放能量的性质。
4)参数计算时要根据输出波形,应用电工基础中平均值、有效值的概念来推导计算公式。
5)续流二极管的作用:使负载不出现负电压,提高输出电压。
v概述
:干膜光致抗蚀剂产生于1968年,而在七十年代初发展起来的i种感光材料,我国于七十
年代中期开始干膜的研制和应用,至今已有几种产品用于印制电路板生产,由于干膜具有良好的工艺性能、优良的成像性和耐化学药品的性能,在图形电镀工艺中,它对于制造精密细导线、
提高生产率、简化工序、改善产品质量等方面起到了其它光致抗蚀剂所起不到的作用。应用干膜制造印制板有如下特点:
v
1.有较高的分辨率,一般线宽可做到0.1mm;
v
2.干膜应用在图形电镀工艺中,电镀加厚在高而垂直的夹壁问进行,在镀层厚度小于 抗 蚀剂厚度时,可以防止产生镀层突延和防止去膜时抗蚀剂嵌入镀层下面,保证线条精度;
v
3.干膜的厚度和组成一致,避免成像时的不连续性,可靠性高;
v
4.应用干膜,大大简化了印制板制造工序,有利于实现机械化、自动化。
v印制蚀刻工艺流程:
v下料→板面清洁处理→涂湿膜→曝光→显影(贴干膜→曝光→显影)→蚀刻→去膜→进入下工序
v畋形电镀工艺过程概括如下:
v下料→钻孔→孔金属化→预镀铜→板面清洁→涂湿膜→曝光→显影(贴干膜→曝光→显影)→形成负相图象
→图形镀铜→图形电镀金属抗蚀层→去膜→蚀刻→进入下工序
图像转移有两种方法,一种是网印图像转移,一种是光化学图像转移。网印图像转移比光
化学图像转移成本低,在生产批量大的情况下更是如此,但是网印抗蚀印料通常只能制造大于 或等于o.25mm的印制导线,而光化学图像转移所用的光致抗蚀剂朗制造分辨率高的清晰图
像。本章所述内容为后一种方法。光化学图像转移需要使用光致抗蚀剂,下面介绍有关光致抗蚀剂的一些基本知识
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